Sütiket használunk, hogy jobb böngészési élményt nyújtsunk, elemezzük az oldalforgalmat és személyre szabjuk a tartalmakat. Az oldal használatával hozzájárulsz a sütikek használatáhozAdatvédelem
CF-HJ Magas Tisztaságú Szilícium Nitrid Por

A szilícium nitrid kerámia szubsztrát számos előnnyel büszkélkedhet, mint például nagy szilárdság, nagy keménység és kivételes hővezetőképesség (130W/(m-k)). Továbbá hőkiemelkedési szióanciona szorosan egyezik a Si, SiC és GaN félvezetőkével. Ennek következtében a szilícium nitrid kerámia aljzat ideális választás nagy teljesítményű modulok csomagolására, így széles körben a legmegfelelőbb kerámia aljzatválasztásnak tartják.

Cégünk a közvetlen nitridációs eljárást alkalmazza a nagy tisztaságú szilícium por előállítására. Egyedi szabadalmaztatott technológiánkon keresztül irányítjuk a szilícium anyagot, a nitrelési folyamatot és finomítási folyamatot, hogy CF-HJ szilícium nitrid port készítsünk elő magas tisztasággal, magas fázistartalommal, szűk részecskeméret-eloszlással és kivételes sinterezési aktivitással. Ez a fajta szilícium nitrid por hatékonyan megszüntette a külföldi monopóliumokat, és teljesen életképes helyettesítőként szolgálhat az azonos minőségi importált szilícium-nitrid pornak.

Műszaki specifikációk

PDF letöltés

Tesztelem

Egység

Indextartomány

Tesztfelszerelés vagy módszer

α fázis

%

≥90

Röntgendiffraktóm

JC/T 2342-2015

Fe

ppm

≤200

Atomabszorpciós módszer

ISO10058-3:2008

Al

ppm

≤200

Ca

ppm

≤200

N

%

≥38,5

Kjeldahl nitrogén apparatus

GB/T 16555-2017

Frss Si

%

<0,2

Gáz térfogati methpd

GB/T 16555-2017

C

%

≤0.10

Nagy frekvenciájú infravörös szén-analyzátor

GB/T 16555-2017

D50

μm

≤0,9

Lézeres részecskeméret-analizátor

GB/T19077-2016

O

%

≤1.4

Inert gázimpulzusú infravörös hővezetőség módszer

GB/T 16555-2017

Árajánlatkérés

  • Name*

  • Tel*

  • Email*

  • Country*

  • leave a message: